240热印,365 nm UV印刷,1 mbar真空印刷,NILT纳米压印机
纳米系列印刷机CNI,EZI-UV
NIL纳米压印设备,NILT nanoimprint
NILTECNOLOGíAAPS
(NILT)是一家专业生产纳米压缩机,纳米结构微机械加工面罩和一些标准纳米压印机模板的高科技企业。
其中,NILT CNI系列纳米压印机有烫印(最高温度240℃)
UV印刷(365 nm)两种功能。
其易于使用的设计使整个纳米压印过程非常简单,灵活和方便。
其他EZI-UVNIL纳米压印设备具有高精度全晶圆印刷功能,可处理尺寸为10 nm且性能为99%的图形。
丹麦的NILT Nanoimprinter可广泛应用于纳米印刷,烫印,辊印,注塑,UV印刷等领域。
NILT纳米压印机的主要应用:
冲压易碎材料,在硅片上创建纳米级网格
执行打印模板和蒙版
高纵横比热压机的结构图
加工微观结构
CNI纳米压印系列(UV)
热压机),轻薄纳米压印机。
CNIV 2。
1
它是为实验室开发的轻薄,即插即用的纳米压印工具,可以执行低成本,高效率和高精度的纳米热压工艺。
它是热印和UV印章的组合,即使在真空环境下也能快速打印。
该系统可根据各种需求轻松配置。在不活动时也很容易收集。
它可以容纳各种形状,格式,模板和材料,最大可达100毫米(4英寸)。
系统只需手动加载和删除模板和电路板,其余操作都是自动化的,随附的软件还提供详细的参数设置,以便客户端可以对过程执行全名控制你可以。印象
产品特点:
烫印(最多240个)
UV印刷(365 nm)两种功能。
真空冲压(1 mbar)
小巧轻便的即插即用,非常适合实验设计,记录,分析
EZI-UV
NIL纳米印模机
EZIUV纳米压印系统
PL 400/600
EZImprinting是一种超高性能产品(
一步自动释放系统(带ONE-STEPAUTO)99%
RELEASE)展示了一种纳米压印平版印刷平台,能够精确地操作和处理10纳米范围内的图形。
产品特点:
处理10 nm大小和99%性能的图形
全晶圆印刷,6“(NTP - 600)
4英寸(NTP - 400)
一步自动释放(ONESTEP
SELF-RELEASE专利,用于防止基材和模板损坏
可编程PLC和触摸界面
它可以与软模板和硬模板一起使用。
适用于不同尺寸的基材和模板。
NILT
CT100剥离处理装置(脱模剂)
治疗工具)
为了实现高质量的压花,必须确保模具表面的低能量并确保模具容易脱离耐印刷性。
CT100释放处理单元是一种易于使用的全自动工具,可在15分钟内在模具上涂上防烧涂层。
NILT
等离子体清洁设备PC 100(等离子体
清洁工具)
PC100等离子清洁设备是使用下游等离子体的批量清洁工具(晶片垂直放置在腔室中)。
下游等离子体不会攻击晶片表面上的任何有机材料,包括金属。
可以配备三种工具
nm滤光片用于在清洁后最小化晶片中的微粒污染。
NIL仿真软件
NILT提供Simprint仿真软件,可以节省宝贵的时间来优化打印参数。